文献
J-GLOBAL ID:201402297959637266
整理番号:14A0590656
ZrO2/Al2O3ゲート誘電体スタックを用いたAlGaN/GaN MIS-HEMTsの減少したゲート漏洩と高い熱安定性
Reduced gate leakage and high thermal stability of AlGaN/GaN MIS-HEMTs using ZrO2/Al2O3 gate dielectric stack
著者 (5件):
HATANO Maiko
(Univ. Fukui, Fukui, JPN)
,
TANIGUCHI Yuya
(Univ. Fukui, Fukui, JPN)
,
KODAMA Shintaro
(Univ. Fukui, Fukui, JPN)
,
TOKUDA Hirokuni
(Univ. Fukui, Fukui, JPN)
,
KUZUHARA Masaaki
(Univ. Fukui, Fukui, JPN)
資料名:
Applied Physics Express
(Applied Physics Express)
巻:
7
号:
4
ページ:
044101.1-044101.4
発行年:
2014年04月
JST資料番号:
F0599C
ISSN:
1882-0778
CODEN:
APEPC4
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)