文献
J-GLOBAL ID:201402298594848765
整理番号:14A1190666
交互積層熱処理法およびRFマグネトロンスパッタ法による石英ガラス上熱電Si:B/SiGe多層構造の形成
Preparation of thermoelectric Si:B/SiGe multilayer structures on quartz glasses by RF-magnetron sputtering with layer-by-layer annealing methods
著者 (5件):
OOKURA Takuya
(Nagaoke Univ. Technol., Niigata, JPN)
,
TOYOTA Hideyuki
(Nagaoke Univ. Technol., Niigata, JPN)
,
TAKEDA Masatoshi
(Nagaoke Univ. Technol., Niigata, JPN)
,
KAMBAYASHI Toshio
(Nagaoke Univ. Technol., Niigata, JPN)
,
UCHITOMI Naotaka
(Nagaoke Univ. Technol., Niigata, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
53
号:
8
ページ:
087102.1-087102.5
発行年:
2014年08月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)