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文献
J-GLOBAL ID：201502201534000818
整理番号：15A1005355
内部シェル照射による放射線感受性新規高分子レジスト材料の選択的フラグメンテーション
Selective Fragmentation of Radiation-Sensitive Novel Polymeric Resist Materials by Inner-Shell Irradiation
CHAGAS Gabriela Ramos
(UFRGS, Rio Grande do Sul, BRA)
,
SATYANARAYANA V. S. V.
(Indian Inst. of Technol. Mandi, Himachal Pradesh, IND)
,
KESSLER Felipe
(Federal Univ. Rio Grande, Rio Grande do Sul, BRA)
,
BELMONTE Guilherme Kretzmann
(UFRGS, Rio Grande do Sul, BRA)
,
GONSALVES Kenneth E.
(Indian Inst. of Technol. Mandi, Himachal Pradesh, IND)
,
WEIBEL Daniel Eduardo
(UFRGS, Rio Grande do Sul, BRA)
資料名：
ACS Applied Materials & Interfaces
(ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 7 号： 30 ページ： 16348-16356 発行年： 2015年08月05日
JST資料番号： W2329A ISSN： 1944-8244 CODEN： AAMICK 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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