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文献
J-GLOBAL ID：201502202117017011
整理番号：15A0876613
nc-Si:H膜一様性の測定と超高周波,差動電力を供給したマルチタイルプラズマ源により作製したプラズマ空間構造の診断
Measurement of nc-Si:H film uniformity and diagnosis of plasma spatial structure produced by a very high frequency, differentially powered, multi-tile plasma source
MONAGHAN E.
(Plasma Res. Lab, School of Physical Sciences & NCPST, Dublin City Univ., Dublin 9, Ireland)
,
YEOM G.Y.
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Sungkyunkwan Univ., Suwon 440-746, KOR)
,
ELLINGBOE A.R.
(Plasma Res. Lab, School of Physical Sciences & NCPST, Dublin City Univ., Dublin 9, Ireland)
,
ELLINGBOE A.R.
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Sungkyunkwan Univ., Suwon 440-746, KOR)
資料名：
Vacuum
(Vacuum)
巻： 119 ページ： 34-46 発行年： 2015年09月
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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