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文献
J-GLOBAL ID：201502202267487059
整理番号：15A1349041
Ge1-xSnx合金薄膜のSIMS評価の間のナノトポグラフィ発展
Development of nanotopography during SIMS characterization of thin films of Ge1- Sn alloy
SECCHI M.
(Center for Materials and Microsystems, Fondazione Bruno Kessler, Via Sommarive 18, 38123 Povo, TN, ITA)
,
SECCHI M.
(Dep. of Physics, Univ. of Trento, Via Sommarive 14, 38123 Trento, ITA)
,
DEMENEV E.
(Center for Materials and Microsystems, Fondazione Bruno Kessler, Via Sommarive 18, 38123 Povo, TN, ITA)
,
DEMENEV E.
(Dep. of Molecular Sci. and Nanosystems, Ca’Foscari Univ., Dorsoduro 2137, 30123 Venice, ITA)
,
COLAUX J.L.
(Ion Beam Centre, Advanced Technol. Inst., Univ. of Surrey, Guildford GU2 7XH, Surrey, England, GBR)
,
GIUBERTONI D.
(Center for Materials and Microsystems, Fondazione Bruno Kessler, Via Sommarive 18, 38123 Povo, TN, ITA)
,
DELL’ANNA R.
(Center for Materials and Microsystems, Fondazione Bruno Kessler, Via Sommarive 18, 38123 Povo, TN, ITA)
,
IACOB E.
(Center for Materials and Microsystems, Fondazione Bruno Kessler, Via Sommarive 18, 38123 Povo, TN, ITA)
,
GWILLIAM R.M.
(Ion Beam Centre, Advanced Technol. Inst., Univ. of Surrey, Guildford GU2 7XH, Surrey, England, GBR)
,
JEYNES C.
(Ion Beam Centre, Advanced Technol. Inst., Univ. of Surrey, Guildford GU2 7XH, Surrey, England, GBR)
,
BERSANI M.
(Center for Materials and Microsystems, Fondazione Bruno Kessler, Via Sommarive 18, 38123 Povo, TN, ITA)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 356 ページ： 422-428 発行年： 2015年11月30日
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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