文献
J-GLOBAL ID:201502202939012607
整理番号:15A0791670
ポリ(ジメチルシロキサン-b-メチルメタクリル酸エステル):サブ10nmのパターン形成のための有望な候補
Poly(dimethylsiloxane-b-methyl methacrylate): A Promising Candidate for Sub-10 nm Patterning
著者 (12件):
LUO Yingdong
(Univ. California, California, USA)
,
MONTARNAL Damien
(Univ. California, California, USA)
,
KIM Sangwon
(Univ. California, California, USA)
,
KIM Sangwon
(Inha Univ., Incheon, KOR)
,
SHI Weichao
(Univ. California, California, USA)
,
BARTEAU Katherine P.
(Univ. California, California, USA)
,
PESTER Christian W.
(Univ. California, California, USA)
,
HUSTAD Phillip D.
(Dow Electronic Materials, Massachusetts, USA)
,
CHRISTIANSON Matthew D.
(Dow Chemical Co., Michigan, USA)
,
FREDRICKSON Glenn H.
(Univ. California, California, USA)
,
KRAMER Edward J.
(Univ. California, California, USA)
,
HAWKER Craig J.
(Univ. California, California, USA)
資料名:
Macromolecules
(Macromolecules)
巻:
48
号:
11
ページ:
3422-3430
発行年:
2015年06月09日
JST資料番号:
B0952A
ISSN:
0024-9297
CODEN:
MAMOBX
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)