文献
J-GLOBAL ID:201502203036735110
整理番号:15A1241948
マスク三次元効果とレジスト効果をシミュレートするための改善された仮想収差モデル
An Improved Virtual Aberration Model to Simulate MASK 3D and Resist Effects
著者 (6件):
KANAYA Reiji
(Nikon Corp., Saitama, JPN)
,
FUJII Koichi
(Nikon Corp., Saitama, JPN)
,
IMAI Motokatsu
(Nikon Corp., Saitama, JPN)
,
MATSUYAMA Tomoyuki
(Nikon Corp., Saitama, JPN)
,
TSUZUKI Takao
(Nikon Corp., Saitama, JPN)
,
LIN Qun Ying
(Inst. Microelectronics, Singapore, SGP)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
9426
ページ:
94261O.1-94261O.9
発行年:
2015年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)