文献
J-GLOBAL ID:201502203234943160
整理番号:15A1172239
高k金属-絶縁体-金属キャパシタのための化学機械研磨技術を用いた超平担BaTiO3表面モフォロジー
Ultra-smooth BaTiO3 surface morphology using chemical mechanical polishing technique for high-k metal-insulator-metal capacitors
著者 (4件):
SUNG H.K.
(Dep. of Electronic Engineering, Kwangwoon Univ., 20 Gwangun-Ro, Nowon-gu, Seoul 139-701, KOR)
,
SUNG H.K.
(Korea Advanced Nano Fab Center (KANC), 109 Gwanggyo-Ro, Yeongtong-gu, Suwon-si, Gyeonggi-do 443-270, KOR)
,
WANG C.
(Dep. of Electronic Engineering, Kwangwoon Univ., 20 Gwangun-Ro, Nowon-gu, Seoul 139-701, KOR)
,
KIM N.Y.
(Dep. of Electronic Engineering, Kwangwoon Univ., 20 Gwangun-Ro, Nowon-gu, Seoul 139-701, KOR)
資料名:
Materials Science in Semiconductor Processing
(Materials Science in Semiconductor Processing)
巻:
40
ページ:
516-522
発行年:
2015年12月
JST資料番号:
W1055A
ISSN:
1369-8001
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)