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文献
J-GLOBAL ID：201502203722729429
整理番号：15A1321081
様々なN2含量の雰囲気中でのRF反応性マグネトロンスパッタリングでポリエーテルスルホン上に蒸着した酸窒化ケイ素薄膜に関する気体浸透特性
Gas permeation properties of silicon oxynitride thin films deposited on polyether sulfone by radio frequency magnetron reactive sputtering in various N2 contents in atmosphere
LIU C.-C.
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, National Chung Hsing Univ., Taichung 40227, Taiwan, TWN)
,
CHANG L.-S.
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, National Chung Hsing Univ., Taichung 40227, Taiwan, TWN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 594 号： PA ページ： 35-39 発行年： 2015年11月02日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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