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文献
J-GLOBAL ID：201502204479576789
整理番号：15A0564584
SiO2/SiO2+Cuナノ層薄膜の熱電及び光学特性に対する熱アニールの影響
Effects of Thermal Annealing on the Thermoelectric and Optical Properties of SiO2/SiO2+Cu Nanolayer Thin Films
BUDAK S.
(Alabama A&M Univ., Dep. of Electrical Engineering & Computer Sci., Normal, AL, USA)
,
BAKER M.
(Alabama A&M Univ., Dep. of Electrical Engineering & Computer Sci., Normal, AL, USA)
,
LASSITER J.
(Alabama A&M Univ., Dep. of Physics, Huntsville, AL, USA)
,
SMITH C.
(4 Sight Inc, Huntsville, AL, USA)
,
MUNTELE C.
(Cygnus Scientific Services, 35815, Huntsville, AL, USA)
,
JOHNSON R. B.
(Alabama A&M Univ., Dep. of Physics, Huntsville, AL, USA)
資料名：
Journal of Electronic Materials
(Journal of Electronic Materials)
巻： 44 号： 6 ページ： 1420-1425 発行年： 2015年06月
JST資料番号： D0277B ISSN： 0361-5235 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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