文献
J-GLOBAL ID:201502204494906702
整理番号:15A1078508
ガラスに接着したPVウェーハのa-Si:H表面不動態化のためのシリコーンプラズマ処理に対するO2の役割
Role of O2 radicals on silicone plasma treatments for a-Si:H surface passivation of PV wafers bonded to glass
著者 (10件):
GRANATA Stefano Nicola
,
MARCHEGIANI Alessio
,
BEARDA Twan
(Imec, Kapeldreef 75, 3001, Heverlee, BEL)
,
TOUS Loic
(Imec, Kapeldreef 75, 3001, Heverlee, BEL)
,
CHEYNS David
(Imec, Kapeldreef 75, 3001, Heverlee, BEL)
,
ABDULRAHEEM Yaser
(Kuwait Univ., Safat 13060, Kuwait)
,
GORDON Ivan
(Imec, Kapeldreef 75, 3001, Heverlee, BEL)
,
SZLUFCIK Jozef
(Imec, Kapeldreef 75, 3001, Heverlee, BEL)
,
MERTENS Robert
(KU Leuven, Kasteelpark Arenberg 10, 3001, Leuven, BEL)
,
POORTMANS Jef
資料名:
Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science
(Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science)
巻:
212
号:
9
ページ:
1946-1953
発行年:
2015年09月
JST資料番号:
D0774A
ISSN:
1862-6300
CODEN:
PSSABA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)