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文献
J-GLOBAL ID:201502204494906702   整理番号:15A1078508

ガラスに接着したPVウェーハのa-Si:H表面不動態化のためのシリコーンプラズマ処理に対するO2の役割

Role of O2 radicals on silicone plasma treatments for a-Si:H surface passivation of PV wafers bonded to glass
著者 (10件):
GRANATA Stefano Nicola
MARCHEGIANI Alessio
BEARDA Twan
(Imec, Kapeldreef 75, 3001, Heverlee, BEL)
TOUS Loic
(Imec, Kapeldreef 75, 3001, Heverlee, BEL)
CHEYNS David
(Imec, Kapeldreef 75, 3001, Heverlee, BEL)
ABDULRAHEEM Yaser
(Kuwait Univ., Safat 13060, Kuwait)
GORDON Ivan
(Imec, Kapeldreef 75, 3001, Heverlee, BEL)
SZLUFCIK Jozef
(Imec, Kapeldreef 75, 3001, Heverlee, BEL)
MERTENS Robert
(KU Leuven, Kasteelpark Arenberg 10, 3001, Leuven, BEL)
POORTMANS Jef

資料名:
Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science  (Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science)

巻: 212  号:ページ: 1946-1953  発行年: 2015年09月 
JST資料番号: D0774A  ISSN: 1862-6300  CODEN: PSSABA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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