文献
J-GLOBAL ID:201502204966695590
整理番号:15A0938933
RFスパッタリングによって蒸着されたナノ結晶TiO2薄膜の低温成長研究
Low temperature growth study of nano-crystalline TiO2 thin films deposited by RF sputtering
著者 (6件):
SAFEEN K
(Univ. Trento, Trento, ITA)
,
SAFEEN K
(Fondazione Bruno Kessler, Trento, ITA)
,
MICHELI V
(Fondazione Bruno Kessler, Trento, ITA)
,
BARTALI R
(Fondazione Bruno Kessler, Trento, ITA)
,
GOTTARDI G
(Fondazione Bruno Kessler, Trento, ITA)
,
LAIDANI N
(Fondazione Bruno Kessler, Trento, ITA)
資料名:
Journal of Physics. D. Applied Physics
(Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻:
48
号:
29
ページ:
295201,1-13
発行年:
2015年07月29日
JST資料番号:
B0092B
ISSN:
0022-3727
CODEN:
JPAPBE
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)