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文献
J-GLOBAL ID：201502206797027720
整理番号：15A1073412
室温でRFスパッタ法により堆積したSrTiO3薄膜の構造,光学的および電気的特性へのO2/Ar流量比と堆積後アニーリングの効果
Effect of O2/Ar flow ratio and post-deposition annealing on the structural, optical and electrical characteristics of SrTiO3 thin films deposited by RF sputtering at room temperature
GOLDENBERG E.
(National Nanotechnology Res. Center (UNAM), Bilkent Univ., Ankara 06800, TUR)
,
BAYRAK T.
(National Nanotechnology Res. Center (UNAM), Bilkent Univ., Ankara 06800, TUR)
,
BAYRAK T.
(Inst. of Materials Sci. and Nanotechnology, Bilkent Univ., Ankara 06800, TUR)
,
OZGIT-AKGUN C.
(National Nanotechnology Res. Center (UNAM), Bilkent Univ., Ankara 06800, TUR)
,
OZGIT-AKGUN C.
(Inst. of Materials Sci. and Nanotechnology, Bilkent Univ., Ankara 06800, TUR)
,
HAIDER A.
(National Nanotechnology Res. Center (UNAM), Bilkent Univ., Ankara 06800, TUR)
,
HAIDER A.
(Inst. of Materials Sci. and Nanotechnology, Bilkent Univ., Ankara 06800, TUR)
,
LEGHARI S.A.
(National Nanotechnology Res. Center (UNAM), Bilkent Univ., Ankara 06800, TUR)
,
LEGHARI S.A.
(Inst. of Materials Sci. and Nanotechnology, Bilkent Univ., Ankara 06800, TUR)
,
KUMAR M.
(National Nanotechnology Res. Center (UNAM), Bilkent Univ., Ankara 06800, TUR)
,
BIYIKLI N.
(National Nanotechnology Res. Center (UNAM), Bilkent Univ., Ankara 06800, TUR)
,
BIYIKLI N.
(Inst. of Materials Sci. and Nanotechnology, Bilkent Univ., Ankara 06800, TUR)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 590 ページ： 193-199 発行年： 2015年09月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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