文献
J-GLOBAL ID:201502207381369807
整理番号:15A1229821
rfパワー伝送線路上の重畳された高周波信号を使うプラズマエッチング容器の条件のモニタリングの実現可能性の研究
Feasibility study of monitoring of plasma etching chamber conditions using superimposed high-frequency signals on rf power transmission line
著者 (2件):
KASASHIMA Y.
(Advanced Manufacturing Res. Inst., National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 807-1 Tosu, Saga ...)
,
UESUGI F.
(Advanced Manufacturing Res. Inst., National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 807-1 Tosu, Saga ...)
資料名:
Review of Scientific Instruments
(Review of Scientific Instruments)
巻:
86
号:
10
ページ:
105107-105107-5
発行年:
2015年10月
JST資料番号:
D0517A
ISSN:
0034-6748
CODEN:
RSINAK
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)