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文献
J-GLOBAL ID：201502207559394770
整理番号：15A1368316
高マンガンシリサイドMn4Si7薄膜の超高真空蒸着
Ultrahigh vacuum deposition of higher manganese silicide Mn4Si7 thin films
DULAL Rajendra P.
(Dep. of Physics, The Catholic Univ. of America, Washington, DC 20064 and The Vitreous State Lab., The Catholic Univ. ...)
,
DAHAL Bishnu R.
(Dep. of Physics, The Catholic Univ. of America, Washington, DC 20064 and The Vitreous State Lab., The Catholic Univ. ...)
,
PEGG Ian L.
(Dep. of Physics, The Catholic Univ. of America, Washington, DC 20064 and The Vitreous State Lab., The Catholic Univ. ...)
,
PHILIP John
(Dep. of Physics, The Catholic Univ. of America, Washington, DC 20064 and The Vitreous State Lab., The Catholic Univ. ...)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 33 号： 6 ページ： 060603-060603-3 発行年： 2015年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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