文献
J-GLOBAL ID:201502207559959912
整理番号:15A0336800
プラズマCVDにより作製したa-C:H膜の空孔型欠陥に及ぼす重水素導入効果
Effect of incorporation of deuterium on vacancy-type defects of a-C:H films prepared by plasma CVD
著者 (5件):
OZEKI K.
(Dep. of Mechanical Engineering, Ibaraki Univ., 4-12-1, Nakanarusawa, Hitachi, Ibaraki 316-8511 Japan)
,
SEKIBA D.
(Univ. of Tsukuba, Tennodai 1-1-1, Ibaraki 305-8573, JPN)
,
UEDONO A.
(Univ. of Tsukuba, Tennodai 1-1-1, Ibaraki 305-8573, JPN)
,
HIRAKURI K.K.
(Tokyo Denki Univ., Senju, Adachi-ku, Tokyo 120-8551, JPN)
,
MASUZAWA T.
(Dep. of Mechanical Engineering, Ibaraki Univ., 4-12-1, Nakanarusawa, Hitachi, Ibaraki 316-8511 Japan)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
330
ページ:
142-147
発行年:
2015年03月01日
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)