文献
J-GLOBAL ID:201502207760063375
整理番号:15A0976049
Ar+イオンエッチング法によるナノ硬度の推定
Nano-hardness estimation by means of Ar+ ion etching
著者 (6件):
BARTALI R.
(Fondazione Bruno Kessler, Center for Materials and Microsystems, via Sommarive 18, Povo, Trento, ITA)
,
MICHELI V.
(Fondazione Bruno Kessler, Center for Materials and Microsystems, via Sommarive 18, Povo, Trento, ITA)
,
GOTTARDI G.
(Fondazione Bruno Kessler, Center for Materials and Microsystems, via Sommarive 18, Povo, Trento, ITA)
,
VACCARI A.
(Fondazione Bruno Kessler, Center for Materials and Microsystems, via Sommarive 18, Povo, Trento, ITA)
,
SAFEEN M.K.
(Fondazione Bruno Kessler, Center for Materials and Microsystems, via Sommarive 18, Povo, Trento, ITA)
,
LAIDANI N.
(Fondazione Bruno Kessler, Center for Materials and Microsystems, via Sommarive 18, Povo, Trento, ITA)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
589
ページ:
376-380
発行年:
2015年08月31日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)