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文献
J-GLOBAL ID:201502208794377820   整理番号:15A1172173

シリコン太陽電池のための塩化セシウム自己集合リソグラフィーによる逆ピラミッド構造の作製

Fabrication of inverted pyramid structure by Cesium Chloride self-assembly lithography for silicon solar cell
著者 (10件):
LIU Jing
(Inst. of High Energy Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100049, CHN)
LIU Jing
(Univ. of Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100049, CHN)
ZHANG Xinshuai
(Inst. of High Energy Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100049, CHN)
ZHANG Xinshuai
(Univ. of Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100049, CHN)
SUN Gangjie
(Inst. of High Energy Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100049, CHN)
SUN Gangjie
(Univ. of Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100049, CHN)
WANG Bo
(Inst. of High Energy Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100049, CHN)
ZHANG Tianchong
(Inst. of High Energy Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100049, CHN)
YI Futing
(Inst. of High Energy Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100049, CHN)
LIU Peng
(Inst. of High Energy Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100049, CHN)

資料名:
Materials Science in Semiconductor Processing  (Materials Science in Semiconductor Processing)

巻: 40  ページ: 44-49  発行年: 2015年12月 
JST資料番号: W1055A  ISSN: 1369-8001  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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