文献
J-GLOBAL ID:201502209434658337
整理番号:15A1034288
エピタキシャルθNi2Si/Si(100)界面でのNiSi横方向成長の直接観察
Direct observation of NiSi lateral growth at the epitaxial θ-Ni2Si/Si(100) interface
著者 (4件):
EL Kousseifi M.
(IM2NP, Aix Marseille Universite-CNRS, UMR 7334, Fac. de Saint Jerome, 13397 Marseille, FRA)
,
HOUMMADA K.
(IM2NP, Aix Marseille Universite-CNRS, UMR 7334, Fac. de Saint Jerome, 13397 Marseille, FRA)
,
EPICIER T.
(MATEIS, Univ. de Lyon, UMR 5510, INSA de Lyon, Bat. B. Pascal, 69621 Villeurbanne Cedex, FRA)
,
MANGELINCK D.
(IM2NP, Aix Marseille Universite-CNRS, UMR 7334, Fac. de Saint Jerome, 13397 Marseille, FRA)
資料名:
Acta Materialia
(Acta Materialia)
巻:
99
ページ:
1-6
発行年:
2015年10月15日
JST資料番号:
A0316A
ISSN:
1359-6454
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)