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文献
J-GLOBAL ID：201502210624005132
整理番号：15A0384493
ウエハ-マスクアラインメントによる大きい測定範囲を持つモアレに基づく絶対干渉測定
Moire-Based Absolute Interferometry With Large Measurement Range in Wafer-Mask Alignment
DI Chengliang
(Univ., Chinese Acad. Sci., Beijing, CHN)
,
DI Chengliang
(Inst. Optics and Electronics, Chinese Acad. Sci., Chengdu, CHN)
,
YAN Wei
(Inst. Optics and Electronics, Chinese Acad. Sci., Chengdu, CHN)
,
HU Song
(Inst. Optics and Electronics, Chinese Acad. Sci., Chengdu, CHN)
,
YIN Didi
(Univ., Chinese Acad. Sci., Beijing, CHN)
,
YIN Didi
(Key Lab. Beam Control, Chinese Acad. Sci., Chengdu, CHN)
,
MA Chifei
(Univ., Chinese Acad. Sci., Beijing, CHN)
,
MA Chifei
(Inst. Optics and Electronics, Chinese Acad. Sci., Chengdu, CHN)
資料名：
IEEE Photonics Technology Letters
(IEEE Photonics Technology Letters)
巻： 27 号： 1-4 ページ： 435-438 発行年： 2015年01月01日
JST資料番号： T0721A ISSN： 1041-1135 CODEN： IPTLEL 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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