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文献
J-GLOBAL ID:201502210732873117   整理番号:15A1053779

自己整合二重パターニング用有効な二次元パターン生成

Effective Two-Dimensional Pattern Generation for Self-Aligned Double Patterning
著者 (3件):
IHARA Takeshi
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
TAKAHASHI Atsushi
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
KODAMA Chikaaki
(Toshiba Corp. Semiconductor & Storage Products Co., Kanagawa, JPN)

資料名:
IEEE International Symposium on Circuits and Systems  (IEEE International Symposium on Circuits and Systems)

巻: 2015 Vol.4  ページ: 2141-2144  発行年: 2015年 
JST資料番号: A0757A  ISSN: 0271-4302  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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