文献
J-GLOBAL ID:201502210732873117
整理番号:15A1053779
自己整合二重パターニング用有効な二次元パターン生成
Effective Two-Dimensional Pattern Generation for Self-Aligned Double Patterning
著者 (3件):
IHARA Takeshi
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
,
TAKAHASHI Atsushi
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
,
KODAMA Chikaaki
(Toshiba Corp. Semiconductor & Storage Products Co., Kanagawa, JPN)
資料名:
IEEE International Symposium on Circuits and Systems
(IEEE International Symposium on Circuits and Systems)
巻:
2015 Vol.4
ページ:
2141-2144
発行年:
2015年
JST資料番号:
A0757A
ISSN:
0271-4302
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)