文献
J-GLOBAL ID:201502210799447848
整理番号:15A1314764
先進の3次元ボクセルモデルを使った窒化シリコンエッチング中のプラズマ誘起損傷分布の予測
Prediction of plasma-induced damage distribution during silicon nitride etching using advanced three-dimensional voxel model
著者 (7件):
KUBOI Nobuyuki
(Device and Material Res. Group, RDS Platform, Sony Corp., 4-14-1 Asahi-cho, Atsugi, Kanagawa 243-0014, JPN)
,
TATSUMI Tetsuya
(Device and Material Res. Group, RDS Platform, Sony Corp., 4-14-1 Asahi-cho, Atsugi, Kanagawa 243-0014, JPN)
,
KINOSHITA Takashi
(Device and Material Res. Group, RDS Platform, Sony Corp., 4-14-1 Asahi-cho, Atsugi, Kanagawa 243-0014, JPN)
,
SHIGETOSHI Takushi
(Device and Material Res. Group, RDS Platform, Sony Corp., 4-14-1 Asahi-cho, Atsugi, Kanagawa 243-0014, JPN)
,
FUKASAWA Masanaga
(Device and Material Res. Group, RDS Platform, Sony Corp., 4-14-1 Asahi-cho, Atsugi, Kanagawa 243-0014, JPN)
,
KOMACHI Jun
(Device and Material Res. Group, RDS Platform, Sony Corp., 4-14-1 Asahi-cho, Atsugi, Kanagawa 243-0014, JPN)
,
ANSAI Hisahiro
(Device and Material Res. Group, RDS Platform, Sony Corp., 4-14-1 Asahi-cho, Atsugi, Kanagawa 243-0014, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
33
号:
6
ページ:
061308-061308-13
発行年:
2015年11月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)