文献
J-GLOBAL ID:201502210981391466
整理番号:15A0760179
EUV及び軟X線波長における干渉リソグラフィー: 原理,方法,応用
Interference lithography at EUV and soft X-ray wavelengths: Principles, methods, and applications
著者 (3件):
MOJARAD Nassir
(Lab. for Micro and Nanotechnology, Paul Scherrer Inst., 5232 Villigen, CHE)
,
GOBRECHT Jens
(Lab. for Micro and Nanotechnology, Paul Scherrer Inst., 5232 Villigen, CHE)
,
EKINCI Yasin
(Lab. for Micro and Nanotechnology, Paul Scherrer Inst., 5232 Villigen, CHE)
資料名:
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻:
143
ページ:
55-63
発行年:
2015年08月01日
JST資料番号:
C0406B
ISSN:
0167-9317
CODEN:
MIENEF
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
解説
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)