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文献
J-GLOBAL ID：201502211460913250
整理番号：15A1267449
低温誘導結合プラズマ化学気相成長法による高屈折率シリコンリッチ窒化物膜の探求および集積導波管向けの用途
Exploring High Refractive Index Silicon-Rich Nitride Films by Low-Temperature Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition and Applications for Integrated Waveguides
NG Doris K. T.
(Data Storage Inst. (A*STAR) Agency for Sci. Technol. & Res., Singapore, SGP)
,
WANG Qian
(Data Storage Inst. (A*STAR) Agency for Sci. Technol. & Res., Singapore, SGP)
,
WANG Ting
(Singapore Univ. Technol. and Design, Singapore, SGP)
,
NG Siu-Kit
(Data Storage Inst. (A*STAR) Agency for Sci. Technol. & Res., Singapore, SGP)
,
TOH Yeow-Teck
(Data Storage Inst. (A*STAR) Agency for Sci. Technol. & Res., Singapore, SGP)
,
LIM Kim-Peng
(Data Storage Inst. (A*STAR) Agency for Sci. Technol. & Res., Singapore, SGP)
,
YANG Yi
(Data Storage Inst. (A*STAR) Agency for Sci. Technol. & Res., Singapore, SGP)
,
TAN Dawn T. H.
(Singapore Univ. Technol. and Design, Singapore, SGP)
資料名：
ACS Applied Materials & Interfaces
(ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 7 号： 39 ページ： 21884-21889 発行年： 2015年10月07日
JST資料番号： W2329A ISSN： 1944-8244 CODEN： AAMICK 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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