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文献
J-GLOBAL ID：201502212664511255
整理番号：15A1140538
ハイブリッドナノインプリントソフトリソグラフィーに基づく近ゼロ残留層ナノインプリント
Near-zero-residual layer nanoimprint based on hybrid nanoimprint soft lithography
CUI Yushuang
(Nanjing Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Coll. of Engineering and Applied Sciences, National Lab. of ...)
,
LU Jingjun
(Nanjing Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Coll. of Engineering and Applied Sciences, National Lab. of ...)
,
FU Xinxin
(Nanjing Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Coll. of Engineering and Applied Sciences, National Lab. of ...)
,
BIAN Jie
(Nanjing Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Coll. of Engineering and Applied Sciences, National Lab. of ...)
,
YUAN Changsheng
(Nanjing Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Coll. of Engineering and Applied Sciences, National Lab. of ...)
,
GE Haixiong
(Nanjing Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Coll. of Engineering and Applied Sciences, National Lab. of ...)
,
CHEN Yanfeng
(Nanjing Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Coll. of Engineering and Applied Sciences, National Lab. of ...)
資料名：
Applied Physics. A. Materials Science & Processing
(Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻： 121 号： 2 ページ： 371-375 発行年： 2015年11月
JST資料番号： D0256C ISSN： 0947-8396 CODEN： APHYCC 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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