文献
J-GLOBAL ID:201502212735925030
整理番号:15A0908444
原子層堆積によって成長させたZnO薄膜特性へのドープ処理とアニールの効果
Effects of doping and annealing on properties of ZnO films grown by atomic layer deposition
著者 (8件):
WANG Aiji
(Beijing Normal Univ., Beijing, CHN)
,
CHEN Tingfang
(Beijing Normal Univ., Beijing, CHN)
,
LU Shuhua
(Beijing Normal Univ., Beijing, CHN)
,
LU Shuhua
(People’s Public Security Univ. China, Beijing, CHN)
,
WU Zhenglong
(Beijing Normal Univ., Beijing, CHN)
,
LI Yongliang
(Beijing Normal Univ., Beijing, CHN)
,
CHEN He
(Beijing Normal Univ., Beijing, CHN)
,
WANG Yinshu
(Beijing Normal Univ., Beijing, CHN)
資料名:
Nanoscale Research Letters (Web)
(Nanoscale Research Letters (Web))
巻:
10
号:
1
ページ:
10:75 (WEB ONLY)
発行年:
2015年12月
JST資料番号:
U7001A
ISSN:
1931-7573
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)