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文献
J-GLOBAL ID：201502212737561387
整理番号：15A0447002
28nm高k金属ゲート技術における欠陥不動態化のためのゲートスタック内のフッ素界面処理
Fluorine interface treatments within the gate stack for defect passivation in 28 nm high-k metal gate technology
DRESCHER Maximilian
(Fraunhofer IPMS-CNT, Koenigsbrueckerstrasse 178, 01099 Dresden, DEU)
,
NAUMANN Andreas
(Fraunhofer IPMS-CNT, Koenigsbrueckerstrasse 178, 01099 Dresden, DEU)
,
SUNDQVIST Jonas
(Fraunhofer IPMS-CNT, Koenigsbrueckerstrasse 178, 01099 Dresden, DEU)
,
ERBEN Elke
(Globalfoundries, Wilschdorfer Landstrasse 101, 01109 Dresden, DEU)
,
GRASS Carsten
(Globalfoundries, Wilschdorfer Landstrasse 101, 01109 Dresden, DEU)
,
TRENTZSCH Martin
(Globalfoundries, Wilschdorfer Landstrasse 101, 01109 Dresden, DEU)
,
LAZAREVIC Florian
(MATcalc, GWT-TUD, Annabergerstrasse 240, 09125 Chemnitz, DEU)
,
LEITSMANN Roman
(MATcalc, GWT-TUD, Annabergerstrasse 240, 09125 Chemnitz, DEU)
,
PLAENITZ Philipp
(MATcalc, GWT-TUD, Annabergerstrasse 240, 09125 Chemnitz, DEU)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 33 号： 2 ページ： 022204-022204-6 発行年： 2015年03月
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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