文献
J-GLOBAL ID:201502212753221953
整理番号:15A1343749
3D位相オフセットホログラフィクリソグラフィー用の3準位回折光学素子を形成するための電子ビーム書き込みによる層状ナノグレーティング
Layered nano-gratings by electron beam writing to form 3-level diffractive optical elements for 3D phase-offset holographic lithography
著者 (2件):
YUAN Liang (Leon)
(The Edward S. Rogers Sr Dep. of Electrical and Computer Engineering and Inst. for Optical Sciences, Univ. of Toronto ...)
,
HERMAN Peter R.
資料名:
Nanoscale
(Nanoscale)
巻:
7
号:
47
ページ:
19905-19913
発行年:
2015年12月21日
JST資料番号:
W2323A
ISSN:
2040-3364
CODEN:
NANOHL
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)