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文献
J-GLOBAL ID：201502212753221953
整理番号：15A1343749
3D位相オフセットホログラフィクリソグラフィー用の3準位回折光学素子を形成するための電子ビーム書き込みによる層状ナノグレーティング
Layered nano-gratings by electron beam writing to form 3-level diffractive optical elements for 3D phase-offset holographic lithography
YUAN Liang (Leon)
(The Edward S. Rogers Sr Dep. of Electrical and Computer Engineering and Inst. for Optical Sciences, Univ. of Toronto ...)
,
HERMAN Peter R.
資料名：
Nanoscale
(Nanoscale)
巻： 7 号： 47 ページ： 19905-19913 発行年： 2015年12月21日
JST資料番号： W2323A ISSN： 2040-3364 CODEN： NANOHL 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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