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文献
J-GLOBAL ID：201502212844723900
整理番号：15A1332855
Ni(111)上Ni<sub>2</sub>SiとNi<sub>2</sub>Ge規則性(√<span style=text-decoration:overline>3</span>×√<span style=text-decoration:overline>3</span>)R30°相の低エネルギー電子回折による構造決定
Structure determination of the ordered (√<span style=text-decoration:overline>3</span>×√<span style=text-decoration:overline>3</span>)R30°phase of Ni<sub>2</sub>Si and Ni<sub>2</sub>Ge surface alloys on Ni(111) via low-energy electron diffraction
RAHMAN Md. Sazzadur
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
NAKAGAWA Takeshi
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
MIZUNO Seigi
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名：
Surface Science
(Surface Science)
巻： 642 ページ： 1-5 発行年： 2015年12月
JST資料番号： C0129B ISSN： 0039-6028 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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