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文献
J-GLOBAL ID：201502212997151701
整理番号：15A1321078
直流マグネトロンスパッタリングで調整した,Mo-Al-Si-N薄膜の構造と機械的性質とに及ぼす窒素流率の効果
Effect of nitrogen flow rate on structure and mechanical properties of Mo-Al-Si-N films prepared by direct current magnetron sputtering
YUAN Zhigang
(School of Mechanical Engineering and Automation, Wuhan textile Univ., Wuhan 430073, CHN)
,
SUN Li
(School of Mechanical Engineering and Automation, Wuhan textile Univ., Wuhan 430073, CHN)
,
FANG Qianfeng
(Key Lab. of Materials Physics, Inst. of Solid State Physics, Chinese Acad. of Sciences, Hefei 230031, CHN)
,
GONG Wenbang
(School of Mechanical Engineering and Automation, Wuhan textile Univ., Wuhan 430073, CHN)
,
WU Xiao
(School of Mechanical Engineering and Automation, Wuhan textile Univ., Wuhan 430073, CHN)
,
XU Zili
(School of Mechanical Engineering and Automation, Wuhan textile Univ., Wuhan 430073, CHN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 594 号： PA ページ： 18-23 発行年： 2015年11月02日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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