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文献
J-GLOBAL ID：201502213795539798
整理番号：15A0939818
三次元相互配線におけるエレクトロマイグレーションに起因した故障の動作中キャラクタリゼーション:微細構造の影響
Electromigration-induced failure in operando characterization of 3D interconnects: microstructure influence
GOUSSEAU Simon
(STMicroelectronics, 850 rue Jean Monnet, 38926 Crolles, FRA)
,
GOUSSEAU Simon
(CEA, LETI, MINATEC Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 9, FRA)
,
GOUSSEAU Simon
(MINES ParisTech CEMEF, UMR CNRS 7635, 1 rue Claude Daunesse, CS 10207, 06904 Sophia Antipolis Cedex, FRA)
,
MOREAU Stephane
(CEA, LETI, MINATEC Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 9, FRA)
,
BOUCHU David
(CEA, LETI, MINATEC Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 9, FRA)
,
FARCY Alexis
(STMicroelectronics, 850 rue Jean Monnet, 38926 Crolles, FRA)
,
MONTMITONNET Pierre
(MINES ParisTech CEMEF, UMR CNRS 7635, 1 rue Claude Daunesse, CS 10207, 06904 Sophia Antipolis Cedex, FRA)
,
INAL Karim
(MINES ParisTech CEMEF, UMR CNRS 7635, 1 rue Claude Daunesse, CS 10207, 06904 Sophia Antipolis Cedex, FRA)
,
BAY Francois
(MINES ParisTech CEMEF, UMR CNRS 7635, 1 rue Claude Daunesse, CS 10207, 06904 Sophia Antipolis Cedex, FRA)
,
ZELSMANN Marc
(LTM-CNRS, CEA, LETI, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex, FRA)
,
PICARD Emmanuel
(CEA, INAC, MINATEC Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 9, FRA)
,
SALAUN Mathieu
(Inst. Neel, 25 rue des Martyrs, BP 166, 38042 Grenoble Cedex 9, FRA)
資料名：
Microelectronics Reliability
(Microelectronics Reliability)
巻： 55 号： 8 ページ： 1205-1213 発行年： 2015年07月
JST資料番号： C0530A ISSN： 0026-2714 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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