文献
J-GLOBAL ID:201502213828959967
整理番号:15A0456106
プラズマ損傷シリコン表面のレーザアニーリング
Laser annealing of plasma-damaged silicon surface
著者 (3件):
SAMESHIMA T.
(Tokyo Univ. of Agriculture and Technol., Tokyo, 184-8588, JPN)
,
HASUMI M.
(Tokyo Univ. of Agriculture and Technol., Tokyo, 184-8588, JPN)
,
MIZUNO T.
(Kanagawa Univ., Kanagawa, 259-1293, JPN)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
336
ページ:
73-78
発行年:
2015年05月01日
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)