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文献
J-GLOBAL ID：201502213923169060
整理番号：15A0446965
電界放出誘起エレクトロマイグレーションを用いた懸垂Niナノギャップのトンネル抵抗の制御
Controlling the tunnel resistance of suspended Ni nanogaps using field-emission-induced electromigration
TOYONAKA Takahiro
(Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Tokyo Univ. of Agriculture and Technol., 2-24-16 Nakacho, Koganei ...)
,
MORIHARA Kohei
(Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Tokyo Univ. of Agriculture and Technol., 2-24-16 Nakacho, Koganei ...)
,
TAKIKAWA Kazuki
(Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Tokyo Univ. of Agriculture and Technol., 2-24-16 Nakacho, Koganei ...)
,
ITO Mitsuki
(Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Tokyo Univ. of Agriculture and Technol., 2-24-16 Nakacho, Koganei ...)
,
SHIRAKASHI Jun-ichi
(Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Tokyo Univ. of Agriculture and Technol., 2-24-16 Nakacho, Koganei ...)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 33 号： 2 ページ： 02B107-02B107-4 発行年： 2015年03月
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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