文献
J-GLOBAL ID:201502214883105450
整理番号:15A0506543
ナノインプリントリソグラフィを利用したSiC膜の高コントラスト格子の製造
Fabrication of SiC Membrane High Contrast Grating Using Nanoimprint Lithography
著者 (6件):
LAI Ying-Yu
(Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN)
,
LAI Ying-Yu
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
INOUE Shunya
(Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN)
,
LU Tien-Chang
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
WANG Shing-Chung
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
KOYAMA Fumio
(Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN)
資料名:
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)
(Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻:
62nd
ページ:
ROMBUNNO.12A-A17-11
発行年:
2015年02月26日
JST資料番号:
Y0054B
ISSN:
2436-7613
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)