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文献
J-GLOBAL ID:201502215450421150   整理番号:15A0877814

Ar/H2のrfマグネトロンスパッタによるSiとSiO2基板上のシリコンナノワイヤの成長

Silicon nanowire growth on Si and SiO2 substrates by rf magnetron sputtering in Ar/H2
著者 (6件):
YAMADA Ikumi
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
HIRANO Yutaro
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
NISHIMURA Kenkichi
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
TAKAO Yoshinori
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
ERIGUCHI Koji
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
ONO Kouichi
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)

資料名:
Applied Physics Express  (Applied Physics Express)

巻:号:ページ: 066201.1-066201.4  発行年: 2015年06月 
JST資料番号: F0599C  ISSN: 1882-0778  CODEN: APEPC4  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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