文献
J-GLOBAL ID:201502215563637079
整理番号:15A1399162
DCアーク放電を用いるイオンプレーティングにより作成されたGaドープZnO膜の構造特性への酸素気体流速とGa含有量の効果
Effects of oxygen gas flow rates and Ga contents on structural properties of Ga-doped ZnO films prepared by ion-plating with a DC arc discharge
著者 (6件):
TERASAKO Tomoaki
(Graduate School of Sci. and Engineering, Ehime Univ., 3 Bunkyo-cho, Matsuyama-shi, Ehime 790-8577, JPN)
,
NOMOTO Junichi
(Res. Inst., Kochi Univ. of Technol., 185 Miyanokuchi, Tosayamada-cho, Kami-shi, Kochi 782-8502, JPN)
,
MAKINO Hisao
(Res. Inst., Kochi Univ. of Technol., 185 Miyanokuchi, Tosayamada-cho, Kami-shi, Kochi 782-8502, JPN)
,
YAMAMOTO Naoki
(Res. Inst., Kochi Univ. of Technol., 185 Miyanokuchi, Tosayamada-cho, Kami-shi, Kochi 782-8502, JPN)
,
SHIRAKATA Sho
(Graduate School of Sci. and Engineering, Ehime Univ., 3 Bunkyo-cho, Matsuyama-shi, Ehime 790-8577, JPN)
,
YAMAMOTO Tetsuya
(Res. Inst., Kochi Univ. of Technol., 185 Miyanokuchi, Tosayamada-cho, Kami-shi, Kochi 782-8502, JPN)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
596
ページ:
24-28
発行年:
2015年12月01日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)