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文献
J-GLOBAL ID：201502217164151068
整理番号：15A0804402
ZnOターゲットのrfマグネトロンスパッタリング中における励起及び基底Zn原子の数密度の決定
Determination of the number density of excited and ground Zn atoms during rf magnetron sputtering of ZnO target
MAALOUL L.
(Dep. de Physique, Univ. de Montreal, Montreal, Quebec H3C 3J7, CAN)
,
GANGWAR R. K.
(Dep. de Physique, Univ. de Montreal, Montreal, Quebec H3C 3J7, CAN)
,
STAFFORD L.
(Dep. de Physique, Univ. de Montreal, Montreal, Quebec H3C 3J7, CAN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 33 号： 4 ページ： 041302-041302-5 発行年： 2015年07月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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