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文献
J-GLOBAL ID：201502217515173454
整理番号：15A1248754
均一な多層W膜における表面粗化動力学の抑制
Suppression of surface roughening kinetics of homogenously multilayered W films
YANG J. J.
(Key Lab. of Radiation Physics and Technol. of Ministry of Education, Inst. of Nuclear Sci. and Technol., Sichuan ...)
,
ZHU H. L.
(Key Lab. of Radiation Physics and Technol. of Ministry of Education, Inst. of Nuclear Sci. and Technol., Sichuan ...)
,
WAN Q.
(Inst. of Systems Engineering, China Acad. of Engineering Physics, Mianyang, Sichuan 621900, CHN)
,
YANG Y. Y.
(Key Lab. of Radiation Physics and Technol. of Ministry of Education, Inst. of Nuclear Sci. and Technol., Sichuan ...)
,
LIAO J. L.
(Key Lab. of Radiation Physics and Technol. of Ministry of Education, Inst. of Nuclear Sci. and Technol., Sichuan ...)
,
LIU N.
(Key Lab. of Radiation Physics and Technol. of Ministry of Education, Inst. of Nuclear Sci. and Technol., Sichuan ...)
,
WANG L. M.
(Dep. of Nuclear Engineering and Radiological Sci., Univ. of Michigan, Ann Arbor, Michigan 41089, USA)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 118 号： 17 ページ： 175301-175301-6 発行年： 2015年11月07日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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