文献
J-GLOBAL ID:201502217624003178
整理番号:15A0960192
2つの超臨界流体に基づく堆積技術の結合によるナノ・インプリント・リソグラフィのためのNi型の製作
Fabrication of Ni mold for nanoimprint lithography by combining two supercritical fluid-based deposition technologies
著者 (3件):
MOMOSE Takeshi
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
KAWADA Hiroto
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
SHIMOGAKI Yukihiro
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
54
号:
7
ページ:
076501.1-076501.4
発行年:
2015年07月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)