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文献
J-GLOBAL ID：201502219016916180
整理番号：15A1401127
反応性プラズマ蒸着法で作製したGa添加ZnO薄膜の構造,電気及び光学特性
Structural, Electrical and Optical Properties of ZnO:Ga Films Grown by Reactive Plasma Deposition with a DC Arc Discharge
寺迫智昭
(愛媛大 大学院理工学研究科)
,
野本淳一
(高知工科大 総合研)
,
牧野久雄
(高知工科大 総合研)
,
矢木正和
(香川高専)
,
白方祥
(愛媛大 大学院理工学研究科)
,
山本哲也
(高知工科大 総合研)
資料名：
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 115 号： 250(CPM2015 76-82) ページ： 1-4 発行年： 2015年10月07日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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