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文献
J-GLOBAL ID:201502219016916180   整理番号:15A1401127

反応性プラズマ蒸着法で作製したGa添加ZnO薄膜の構造,電気及び光学特性

Structural, Electrical and Optical Properties of ZnO:Ga Films Grown by Reactive Plasma Deposition with a DC Arc Discharge
著者 (6件):
寺迫智昭
(愛媛大 大学院理工学研究科)
野本淳一
(高知工科大 総合研)
牧野久雄
(高知工科大 総合研)
矢木正和
(香川高専)
白方祥
(愛媛大 大学院理工学研究科)
山本哲也
(高知工科大 総合研)

資料名:
電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))

巻: 115  号: 250(CPM2015 76-82)  ページ: 1-4  発行年: 2015年10月07日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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