文献
J-GLOBAL ID:201502219550038686
整理番号:15A1343923
ALD Zn(O,S)緩衝層の局所電子構造と幾何学的配置のX線吸収分光法を利用する探索
Exploring the local electronic structure and geometric arrangement of ALD Zn(O,S) buffer layers using X-ray absorption spectroscopy
著者 (9件):
DADLANI Anup L.
(Dep. of Chemistry, Stanford Univ., Stanford, CA 94305, USA)
,
TREJO Orlando
,
ACHARYA Shinjita
,
TORGERSEN Jan
,
PETOUSIS Ioannis
,
NORDLUND Dennis
,
SARANGI Ritimukta
,
SCHINDLER Peter
,
PRINZ Fritz B.
資料名:
Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices
(Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices)
巻:
3
号:
47
ページ:
12192-12198
発行年:
2015年12月21日
JST資料番号:
W2383A
ISSN:
2050-7526
CODEN:
JMCCCX
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)