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文献
J-GLOBAL ID:201502219550038686   整理番号:15A1343923

ALD Zn(O,S)緩衝層の局所電子構造と幾何学的配置のX線吸収分光法を利用する探索

Exploring the local electronic structure and geometric arrangement of ALD Zn(O,S) buffer layers using X-ray absorption spectroscopy
著者 (9件):
DADLANI Anup L.
(Dep. of Chemistry, Stanford Univ., Stanford, CA 94305, USA)
TREJO Orlando
ACHARYA Shinjita
TORGERSEN Jan
PETOUSIS Ioannis
NORDLUND Dennis
SARANGI Ritimukta
SCHINDLER Peter
PRINZ Fritz B.

資料名:
Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices  (Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices)

巻:号: 47  ページ: 12192-12198  発行年: 2015年12月21日 
JST資料番号: W2383A  ISSN: 2050-7526  CODEN: JMCCCX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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