文献
J-GLOBAL ID:201502220309426657
整理番号:15A0965553
MEMSデバイス用のAlマスクとAlNマスクによるSiO2ディープエッチング
Deep SiO2 etching with Al and AlN masks for MEMS devices
著者 (4件):
BLIZNETSOV Vladimir
(A*STAR (Agency for Sci., Technol. and Res.), Singapore, SGP)
,
LIN Hua Mao
(A*STAR (Agency for Sci., Technol. and Res.), Singapore, SGP)
,
ZHANG Yue Jia
(A*STAR (Agency for Sci., Technol. and Res.), Singapore, SGP)
,
JOHNSON David
(SPTS Technol., Newport, GBR)
資料名:
Journal of Micromechanics and Microengineering
(Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻:
25
号:
8
ページ:
087002,1-8
発行年:
2015年08月
JST資料番号:
W1424A
ISSN:
0960-1317
CODEN:
JMMIEZ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)