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文献
J-GLOBAL ID：201502220309426657
整理番号：15A0965553
MEMSデバイス用のAlマスクとAlNマスクによるSiO2ディープエッチング
Deep SiO2 etching with Al and AlN masks for MEMS devices
BLIZNETSOV Vladimir
(A*STAR (Agency for Sci., Technol. and Res.), Singapore, SGP)
,
LIN Hua Mao
(A*STAR (Agency for Sci., Technol. and Res.), Singapore, SGP)
,
ZHANG Yue Jia
(A*STAR (Agency for Sci., Technol. and Res.), Singapore, SGP)
,
JOHNSON David
(SPTS Technol., Newport, GBR)
資料名：
Journal of Micromechanics and Microengineering
(Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻： 25 号： 8 ページ： 087002,1-8 発行年： 2015年08月
JST資料番号： W1424A ISSN： 0960-1317 CODEN： JMMIEZ 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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