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文献
J-GLOBAL ID：201502231072682140
整理番号：15A0741905
走査X線回折顕微鏡法による最新CMOS応用のための300mmのSiGe仮想基板の構造と組成均質化のイメージング
Imaging Structure and Composition Homogeneity of 300 mm SiGe Virtual Substrates for Advanced CMOS Applications by Scanning X-ray Diffraction Microscopy
ZOELLNER Marvin H.
(IHP, Frankfurt (Oder), DEU)
,
RICHARD Marie-Ingrid
(European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA)
,
RICHARD Marie-Ingrid
(Aix-Marseille Univ., Marseille, FRA)
,
CHAHINE Gilbert A.
(European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA)
,
ZAUMSEIL Peter
(IHP, Frankfurt (Oder), DEU)
,
REICH Christian
(IHP, Frankfurt (Oder), DEU)
,
CAPELLINI Giovanni
(IHP, Frankfurt (Oder), DEU)
,
MONTALENTI Francesco
(Universita degli Studi di Milano-Bicocca, Milano, ITA)
,
MARZEGALLI Anna
(Universita degli Studi di Milano-Bicocca, Milano, ITA)
,
XIE Ya-Hong
(Univ. California at Los Angeles, California, USA)
,
SCHUELLI Tobias U.
(European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA)
,
HAEBERLEN Maik
(Siltronic AG, Muenchen, DEU)
,
STORCK Peter
(Siltronic AG, Muenchen, DEU)
,
SCHROEDER Thomas
(IHP, Frankfurt (Oder), DEU)
,
SCHROEDER Thomas
(Brandenburgische Technische Univ. Cottbus, Cottbus, DEU)
資料名：
ACS Applied Materials & Interfaces
(ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 7 号： 17 ページ： 9031-9037 発行年： 2015年05月06日
JST資料番号： W2329A ISSN： 1944-8244 CODEN： AAMICK 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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