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文献
J-GLOBAL ID：201502232288778717
整理番号：15A0523522
不規則ナノホールナノインプリントによる反射防止用Si基板の直接調節
Direct Tailoring the Si Substrate for Antireflection via Random Nanohole Nanoimprint
SUN Tangyou
(Huazhong Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN)
,
XU Zhimou
(Huazhong Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN)
,
XU Haifeng
(Huazhong Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN)
,
ZHAO Wenning
(Huazhong Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN)
,
WU Xinghui
(Huazhong Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN)
,
LIU Sisi
(Huazhong Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN)
,
MA Zhichao
(Huazhong Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN)
,
ZHANG Zheng
(Huazhong Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN)
,
HE Jian
(Huazhong Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN)
,
LIU Shiyuan
(Huazhong Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN)
,
PENG Jing
(Wuhan Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN)
資料名：
Journal of Nanoscience and Nanotechnology
(Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 15 号： 2 ページ： 1297-1303 発行年： 2015年02月
JST資料番号： W1351A ISSN： 1533-4880 CODEN： JNNOAR 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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