文献
J-GLOBAL ID:201502234946910619
整理番号:15A0435294
容量性RFプラズマ中の電子加熱に両極性電場が及ぼす影響
The effect of ambipolar electric fields on the electron heating in capacitive RF plasmas
著者 (5件):
SCHULZE J
(West Virginia Univ., WV, USA)
,
DONKO Z
(Wigner Res. Centre for Physics, Hungarian Acad. of Sci., Budapest, HUN)
,
DERZSI A
(Wigner Res. Centre for Physics, Hungarian Acad. of Sci., Budapest, HUN)
,
KOROLOV I
(Wigner Res. Centre for Physics, Hungarian Acad. of Sci., Budapest, HUN)
,
SCHUENGEL E
(West Virginia Univ., WV, USA)
資料名:
Plasma Sources Science and Technology
(Plasma Sources Science and Technology)
巻:
24
号:
1
ページ:
015019,1-13
発行年:
2015年02月
JST資料番号:
W0479A
ISSN:
0963-0252
CODEN:
PSTEEU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)