文献
J-GLOBAL ID:201502235385801315
整理番号:15A0444775
超高真空から空気曝露下でのフルオロホア-ニトロキシドラジカルの電子構造と安定性
Electronic Structure and Stability of Fluorophore-Nitroxide Radicals from Ultrahigh Vacuum to Air Exposure
著者 (6件):
KAKAVANDI R.
(Univ. Tuebingen, Tuebingen, DEU)
,
RAVAT P.
(Max Planck Inst. for Polymer Res., Mainz, DEU)
,
SAVU S.-A.
(Univ. Tuebingen, Tuebingen, DEU)
,
BOROZDINA Y. B.
(Max Planck Inst. for Polymer Res., Mainz, DEU)
,
BAUMGARTEN M.
(Max Planck Inst. for Polymer Res., Mainz, DEU)
,
CASU M. B.
(Univ. Tuebingen, Tuebingen, DEU)
資料名:
ACS Applied Materials & Interfaces
(ACS Applied Materials & Interfaces)
巻:
7
号:
3
ページ:
1685-1692
発行年:
2015年01月28日
JST資料番号:
W2329A
ISSN:
1944-8244
CODEN:
AAMICK
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)