文献
J-GLOBAL ID:201502236009283270
整理番号:15A0479086
水素処理NbO2薄膜の電圧誘起金属-絶縁体転移
Voltage-induced insulator-to-metal transition of hydrogen-treated NbO2 thin films
著者 (3件):
KANG Minkook
(Pohang Univ. Sci. and Technol. (POSTECH), Gyungbuk, KOR)
,
YU Sangbae
(Pohang Univ. Sci. and Technol. (POSTECH), Gyungbuk, KOR)
,
SON Junwoo
(Pohang Univ. Sci. and Technol. (POSTECH), Gyungbuk, KOR)
資料名:
Journal of Physics. D. Applied Physics
(Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻:
48
号:
9
ページ:
095301,1-5
発行年:
2015年03月11日
JST資料番号:
B0092B
ISSN:
0022-3727
CODEN:
JPAPBE
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)