文献
J-GLOBAL ID:201502236526610051
整理番号:15A0457198
シリコン太陽電池における拡散層への超音波スプレー熱分解により成長した酸化インジウムすずとフッ素ドープした酸化インジウム膜の接触抵抗
Contact resistance of indium tin oxide and fluorine-doped indium oxide films grown by ultrasonic spray pyrolysis to diffusion layers in silicon solar cells
著者 (4件):
UNTILA G.G.
(Skobeltsyn Inst. of Nuclear Physics, Lomonosov Moscow State Univ., Moscow 119991, RUS)
,
KOST T.N.
(Skobeltsyn Inst. of Nuclear Physics, Lomonosov Moscow State Univ., Moscow 119991, RUS)
,
CHEBOTAREVA A.B.
(Skobeltsyn Inst. of Nuclear Physics, Lomonosov Moscow State Univ., Moscow 119991, RUS)
,
KIREEVA E.D.
(Skobeltsyn Inst. of Nuclear Physics, Lomonosov Moscow State Univ., Moscow 119991, RUS)
資料名:
Solar Energy Materials and Solar Cells
(Solar Energy Materials and Solar Cells)
巻:
137
ページ:
26-33
発行年:
2015年06月
JST資料番号:
D0513C
ISSN:
0927-0248
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)