文献
J-GLOBAL ID:201502237496772872
整理番号:15A0597866
テトラキス(ジエチルアミノ)ジルコニウムとフォーミングガス(5%H2+95%N2)プラズマを使用する導電性窒化ジルコニウム膜の低温プラズマ増強原子層蒸着
Low temperature plasma enhanced atomic layer deposition of conducting zirconium nitride films using tetrakis (dimethylamido) zirconium and forming gas (5% H2 + 95% N2) plasma
著者 (2件):
MUNESHWAR Triratna
(Dep. of Chemical and Materials Engineering, Univ. of Alberta, Edmonton, Alberta T6G 2V4, CAN)
,
CADIEN Ken
(Dep. of Chemical and Materials Engineering, Univ. of Alberta, Edmonton, Alberta T6G 2V4, CAN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
33
号:
3
ページ:
031502-031502-7
発行年:
2015年05月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)