文献
J-GLOBAL ID:201502237527430100
整理番号:15A0498146
エピタキシャルLa1-xSrxCoO3薄膜の四回対称平面Hall効果
Fourfold symmetric planar Hall effect in epitaxial La1-xSrxCoO3 thin films
著者 (3件):
CUI W. Y.
(Tianjin Key Lab. of Low Dimensional Materials Physics and Preparation Technol., Inst. of Advanced Materials Physics ...)
,
LI P.
(Tianjin Key Lab. of Low Dimensional Materials Physics and Preparation Technol., Inst. of Advanced Materials Physics ...)
,
BAI H. L.
(Tianjin Key Lab. of Low Dimensional Materials Physics and Preparation Technol., Inst. of Advanced Materials Physics ...)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
117
号:
13
ページ:
133904-133904-6
発行年:
2015年04月07日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)